Descrição dos produtos
Um alvo de pulverização catódica de tungstênio é um material metálico de alta-pureza usado em processos de PVD (deposição física de vapor) para depositar filmes finos de tungstênio em substratos.
Devido ao seu alto ponto de fusão, baixa resistividade e excelente estabilidade térmica, o tungstênio é amplamente utilizado em aplicações eletrônicas e de revestimento avançadas.
Os alvos de pulverização catódica de tungstênio são amplamente utilizados nas indústrias de semicondutores, displays e revestimento de filmes finos, ondealta pureza, deposição estável e qualidade de filme uniformesão críticos.
Na Ehisen, fornecemosalvos de tungstênio de alta-densidade e ultra{1}}purezaprojetado parasistemas de pulverização catódica magnetron, garantindo desempenho estável e longa vida útil em ambientes de produção exigentes.
👉 Tamanhos personalizados, soluções de colagem e entrega rápida disponíveis
Especificações de produtos
| Pureza | W>99.95% |
| Densidade | >19,1g/cc |
| Redondo | Diâmetro menor ou igual a 14 polegadas |
| Espessura maior ou igual a 1mm | |
| Bloquear | Comprimento menor ou igual a 32 polegadas |
| Largura menor ou igual a 12 polegadas | |
| Espessura maior ou igual a 1mm | |
| Tipo: | Alvos de pulverização catódica de tungstênio planares e rotativos |
Abaixo estão os tamanhos mais padrão de nossos alvos de pulverização catódica de tungstênio. Se você não encontrar o tamanho que precisa, não hesite em nos contatar.
| Grossura | Largura | Comprimento | Alinhamento | Vertical | Acabamento de superfície |
| 8.0~16.0 | 10~450 | 10~500 | <0.05 | <2o | |
| 3.0~8.0 | 10~450 | 10~800 | <0.05 | <2o | |
| 1.0~3.0 | 10~450 | 10~1200 | <0.05 | <2o |
Aplicações típicas de alvos de pulverização catódica de tungstênio
Principais vantagens dos nossos alvos de tungstênio
● Alta Pureza (até 99,999%)
Garante contaminação mínima em processos de semicondutores
● High Density Structure (>19,2g/cm³)
Fornece taxa de pulverização uniforme e espessura de filme estável
● Baixa geração de partículas
Melhora o rendimento em aplicações de revestimento de precisão
● Microestrutura estável
Garante desempenho consistente durante longos ciclos de operação
● Soluções de colagem personalizadas
Placa de apoio de cobre com ligação de índio disponível
Como escolher o alvo certo de tungstênio
A seleção do alvo correto para pulverização catódica de tungstênio depende de:
● Nível de pureza → semicondutor vs revestimento industrial
● Tamanho do grão → afeta a uniformidade do filme
● Ligado versus não{0}}ligado → desempenho de dissipação de calor
● Tamanho do alvo → compatível com equipamento de pulverização catódica
👉 Fornecemos suporte de seleção gratuito com base nas condições do seu processo
ehisen
entrega de embalagem
entrega de embalagem
Materiais de embalagem:
Geralmente são usados materiais de embalagem anti{0}}estáticos, à prova de umidade-e de choque-, como espuma plástica, caixas de madeira, caixas de papelão, etc.
Método de embalagem:
Coloque o produto na embalagem e fixe-o com enchimento para evitar que o alvo se mova ou seja danificado durante o transporte.
Logotipo e etiqueta:
Coloque logotipo e etiqueta claros na embalagem, incluindo modelo alvo, especificação, quantidade, data de produção, número de lote e outras informações.
Método de transporte:
Os produtos geralmente são transportados por via aérea ou terrestre. Durante o transporte, deve-se tomar cuidado para evitar que o alvo seja afetado por fortes vibrações, colisões ou mudanças de temperatura.
Processos de serviço
Nossos processos de serviço
Investigação
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Determinar o produto
2
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Encomendar amostras
3
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Confirme o pedido
4
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Transporte multi-canal
5
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Serviços pós{0}}venda
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Perguntas frequentes
Perguntas frequentes
01.Qual alvo de pureza de tungstênio devo escolher?
02.Qual é a vida útil típica de um alvo de pulverização catódica de tungstênio?
03.Vocês fornecem alvos de tungstênio colados?
04.Você pode personalizar tamanho e forma?
05. Qual é o preço do alvo de pulverização catódica de tungstênio?
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● Pureza necessária
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● Aplicação (semicondutor/revestimento/solar)
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